Ø200mm 兼容曝光机 MA-4301M 日本进*口

新设备：Ø200mm 兼容曝光机 MA-4301M；制造商：日本制造商

简介：

主要特长：利用本公司独创的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。装载机侧和卸载机侧最多可设置两个篮具（选购项）。备有冷却机构，可进行基板台与掩膜的温度管理（选购项）。搭载本公司独创的镜面光学系统爆光灯房（LAMP HOUSE）。

从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。搭载非接触预对位系统（PREALIGNER）。从而实现了高精度进给且保证基板不受任何损伤。搭载有自动掩膜更换机。并可支持掩膜存放库。

主要规格：

1、Wafer材料：Si,Glass

2、Wafer尺寸：Φ6″ × t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm、Φ8″ × t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm

3、节拍时间：Proximity exposure：19 s/wafer、(One parallelism compensation per lot)

4、间隙：1 to 200 μm Servo motor、Setup resolution：1 μm

5、对位精度：自动对位：+/- 1 μm(Peak search)

6、尺寸・重量：本体尺寸：W 1800 × D 1650 × H 2015 mm

7、总重量(including lamp house)：1400 kg

8、曝光方式：Soft contact exposure、Hard

contact exposure、Proximity exposure

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